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设备简介(jie)
该系(xi)统(tong)采用世界先进的(de)工艺,配(pei)合美国陶氏反渗透膜元件(jian)以及原装进口的(de)EDI膜块,产生(sheng)的(de)水(shui)一(yi)般是1-18MΩ﹒cm范围的(de)超纯(chun)水(shui),适用于单/多晶(jing)硅(gui)、半(ban)导(dao)体(ti)(ti)晶(jing)片(pian)切割制造、半(ban)导(dao)体(ti)(ti)芯片(pian)、半(ban)导(dao)体(ti)(ti)封装、引线(xian)柜架、集成电(dian)(dian)路、 液晶(jing)显(xian)示器、导(dao)电(dian)(dian)玻璃、电(dian)(dian)池(蓄(xu)电(dian)(dian)池)、显(xian)像管、线(xian)路板、光通(tong)信、电(dian)(dian)脑元件(jian)、电(dian)(dian)容器、洁(jie)净产品及各种元器件(jian)等(deng)电(dian)(dian)子行业生(sheng)产工艺用水(shui)。
典型的工艺流程
原水 + 原水泵 + 石(shi)英(ying)砂过滤器 +活性炭过滤器 + 软化器 + 精密过滤器 +一级反渗透(tou) + 一级纯水(shui)箱 + 二级反渗(shen)透 + 二级(ji)纯(chun)水箱 + 增压泵+TOC-UV装置 + 精密过(guo)滤器(qi) + EDI装置(zhi) + 抛光(guang)混床